用于煅烧 5N 氧化铝和氧化铟陶瓷粉末的高纯度匣钵

多孔高氧化铝沉降片:专为煅烧高纯度氧化铝粉末而设计。在 1800℃ 高温下煅烧,具有低膨胀系数和超高纯度的特点,可有效帮助粉末排出水分和去除粘结剂,确保煅烧质量。

耐火和高温产品

用于煅烧 5N 氧化铝和氧化铟陶瓷粉末的高纯度匣钵

使用温度 (℃):1650
孔隙率 (%):23
体积密度(克/立方厘米):2.95
1000℃ 时 热膨胀率:5.6×10−6
使用:煅烧高纯陶瓷粉
NaO + Ka0 (%):≤0.15

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多孔高铝匣钵用于高纯度氧化铝粉体煅烧,匣钵需要经过1800℃高温烧成,采用AL2O3:99.9%高纯氧化铝和低钠白刚玉等进行生产的,结合剂采用低灰份(灰份含量Ash≤0.01%),在整个原料控制上我们保证杂志有效控制并经过足够的高温烧成将AL2O3的活性进行稳定。实现较低的热膨胀系数和非常高纯化学性能。为高纯度陶瓷粉体进行煅烧生产。有效的气孔存在为陶瓷粉体在低温煅烧时辅助排水排胶的虹吸效应,可以实现最彻底有效的排除有机物。

ProjectIndex
AL0з(%)89.35
SiO(%)10.45
FeOз(%)0.06
NaO +Ka0 (%)≤0.15
使用温度 (℃)1650
1000℃ 时 热膨胀率5.6×10-6
孔隙率 (%)23
体积密度 (g/cm³)2.95
用途煅烧高纯度陶瓷粉末
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