箱式炉

真空气氛烧结电炉，采用气动开关炉门，炉膛 300×200×200mm，±1℃控温精度，具备真空、气氛控制与安全保护，适合陶瓷、金属新材料高温烧结实验。

AJ 卤化物电解质辊道烧结炉最高 700℃，碳化硅上下加热，氮气气氛，辊棒输送匣钵，30 段程序控温，支持数据记录导出，适合卤化物电解质材料烧结制备

2100℃真空气氛炉，高纯钨带加热，多层金属反射屏，氩气气氛环境，控温 ±1℃。自带压力保护、声光报警与应急电源，供科研院所开展陶瓷、冶金、新材料高温烧结熔融。

VAF 系列 1700℃氢气气氛烧结炉，钼丝双侧加热，PLC 触摸屏控制，水冷双层炉体，氢气检测与点火保护，30 段程序控温，适用于新材料氢气烧结还原。

1600℃真空气氛炉，1800 型硅钼棒双侧加热，B 型热电偶，7 寸触摸屏配三路质量流量计，水冷 + 压力保护，30 段程序控温，科研新材料气氛烧结。

ZQLB 系列 1400 度真空气氛箱式炉，集成真空泵、气路、水循环及压力保护，±1℃无超调控温，可通氮氩氢等气氛，30 段程序控温，适配科研新材料烧结、冶金分析。